| 专利名称 | 一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法 | 申请号 | CN200810121903.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101724820A | 公开（授权）日 | 2010.06.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 宋振纶;孙科沸;李金龙;冒守栋 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法 至一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)在真空室内安装纯度大于98％的铝靶，使其与水平面的角度在45°～90°之间；(2)对钕铁硼工件进行除油、除锈处理；(3)把钕铁硼工件放置在工件托架上；(4)抽真空，使真空室内的真空度不大于1×10-3Pa；(5)对钕铁硼工件进行溅射沉积铝膜，采用惰性气体为工作气体，工作气压为0.1～10Pa，单位靶面积的溅射功率为1～6w/cm2，采用至少一个铝靶对钕铁硼工件进行溅射，溅射时间为1～5h；(6)采用手动机械手翻转钕铁硼工件；(7)对钕铁硼工件进行溅射沉积，采用惰性气体为工作气体，工作气压为0.1～10Pa，单位靶面积的溅射功率为1～6w/cm2，采用至少一个溅射靶对钕铁硼工件进行溅射，溅射时间为1～5h。 |
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