| 专利名称 | 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法 | 申请号 | CN200910217814.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101718884A | 公开（授权）日 | 2010.06.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 孔鹏;李文昊;巴音贺希格;齐向东;唐玉国 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法 至平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅基底的定位方法。要解决的技术问题是提供一种平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法。技术方案为：步骤一，配备一套平面全息光栅曝光装置，该装置与已有技术中的全息光栅曝光装置完全一致；步骤二，在平面全息光栅曝光装置中，加入监测激光器和一个分划板，将标准光栅的位置记录在分划板上；步骤三，加入另一个分划板，将监测激光光束的位置记录到两个分划板上；步骤四，安装并调整光栅基底使监测激光光束的反射光返回分划板中心，此时进行曝光就能制作出具有标准光栅常数的平面全息光栅。该方法能够快速准确的定位光栅基底，提高制作效率。? |
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