| 专利名称 | 复合光子筛投影式光刻系统 | 申请号 | CN201110234020.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102289157A | 公开（授权）日 | 2011.12.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 谢常青;高南;华一磊;朱效立;李海亮;史丽娜;李冬梅;刘明 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 复合光子筛投影式光刻系统 至复合光子筛投影式光刻系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及微纳加工技术领域，公开了一种复合光子筛投影式光刻系统，该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底，其中：照明系统，用于产生入射光，并将该入射光照射至掩模板；掩模板，用于提供复合光子筛成像的物方，入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛；复合光子筛，用于实现成像功能，将掩模板上的图形在衬底上成像；衬底，用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明，由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜，不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点，实现快速的大批量光刻，提高光刻效率，而且可以有效地降低成本，减小系统体积。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障