专利名称 | GaInP/GaAs/Ge三结级联太阳能电池及其制备方法 | 申请号 | CN201210249554.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN102790120A | 公开(授权)日 | 2012.11.21 | 申请(专利权)人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明(设计)人 | 孙玉润;董建荣;李奎龙;于淑珍;赵勇明;赵春雨;杨辉 | 主分类号 | H01L31/0687(2012.01)I | IPC主分类号 | H01L31/0687(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 专利有效期 | GaInP/GaAs/Ge三结级联太阳能电池及其制备方法 至GaInP/GaAs/Ge三结级联太阳能电池及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种GaInP/GaAs/Ge三结级联太阳能电池,包括支撑衬底,以及在所述支撑衬底上依次设置的第二接触层、Ge子电池、第二隧道结、GaAs子电池、第一隧道结、GaInP子电池和第一接触层。本发明还提供一种GaInP/GaAs/Ge三结级联太阳能电池的制备方法,包括步骤:1)提供一GaAs衬底;2)在GaAs衬底表面依次生长AlGaAs的牺牲层、第一接触层、GaInP子电池、第一隧道结、GaAs子电池、第二隧道结、Ge子电池及第二接触层;3)提供一支撑衬底;4)将支撑衬底键合至第二接触层表面;5)从第一接触层处将GaAs衬底及AlGaAs的牺牲层剥离以去除GaAs衬底及AlGaAs的牺牲层。 |
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