| 专利名称 | 提高大光斑激光系统焦斑功率密度的装置 | 申请号 | CN200910197478.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101694544A | 公开（授权）日 | 2010.04.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 任志君;梁晓燕;李进峰;李儒新;徐至展 | 主分类号 | G02B26/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B26/06(2006.01)I | 专利有效期 | 提高大光斑激光系统焦斑功率密度的装置 至提高大光斑激光系统焦斑功率密度的装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种提高大光斑激光系统焦斑功率密度的装置，包括大光斑激光系统激光源、变形镜、反射镜、波前测量仪、离轴抛物镜，CCD阵列探测器和计算机，其特点在于在所述的离轴抛物镜的反射光路上设置所述的变形镜，该变形镜为小口径变形镜，在所述的变形镜的反射光路上依次设置所述的反射镜和波前测量仪，在所述的反射镜的反射光路上和所述的离轴抛物镜的焦点平面设置所述的CCD阵列探测器，所述的波前测量仪的输出端接所述的计算机的输入端，该计算机的输出端接所述的变形镜的控制端。本发明利用小口径变形镜自适应地的提高大光斑激光系统焦斑功率密度，具有廉价、简单和高效的特点。 |
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