一种用于质子电子双共振成像的磁场循环装置

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专利名称 一种用于质子电子双共振成像的磁场循环装置 申请号 CN201210350926.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102879754A 公开(授权)日 2013.01.16 申请(专利权)人 中国科学院电工研究所 发明(设计)人 王慧贤;杨文晖;王铮;魏树峰;张晓兵 主分类号 G01R33/62(2006.01)I IPC主分类号 G01R33/62(2006.01)I 专利有效期 一种用于质子电子双共振成像的磁场循环装置 至一种用于质子电子双共振成像的磁场循环装置 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种用于质子电子双共振成像的磁场循环装置,利用永磁体作为基础主磁场,利用电磁磁体产生偏置磁场。所述的永磁磁体(101)采用C型开放式结构;所述的电磁磁体(106)置于永磁磁体成像空间内,采用亥姆霍兹结构,由两个半径和匝数均相同的线圈同轴排列串联连接;对偏置磁场采用主动屏蔽的方法来减小由磁场循环带来的涡流影响,主动屏蔽线圈(104)由上、下两个半径和匝数均相同的线圈同轴排列串联构成。同时本发明利用扫场的方式,确保电子的顺磁共振激发,扫场线圈采用亥姆霍兹结构,在成像区域产生均匀磁场,该均匀磁场在一个时间周期内随时间线性变化,以扫描射频脉冲激发电子顺磁共振所需的磁场环境。

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