| 专利名称 | 平面光学元件面形的检测方法 | 申请号 | CN201210289617.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102818534A | 公开（授权）日 | 2012.12.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张敏;唐锋;王向朝;戴凤剑 | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 平面光学元件面形的检测方法 至平面光学元件面形的检测方法 | 法律状态 | 著录事项变更 | 说明书摘要 | 一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括：斐索干涉仪、两块4%反射率的平面标准镜、一块4%～13%反射率的平面标准镜、一块透射率介于0.30～0.36之间的反射式或吸收式的衰减片。该检测方法首先对4%反射率、4%反射率和4%～13%反射率的三块标准镜进行绝对检验，得到4%～13%反射率平面标准镜的绝对面形；其次在干涉腔内插入衰减片，对4%～13%反射率的平面标准镜进行相对检验，计算出干涉仪系统误差；最后对待测元件进行相对检验，扣除系统误差，得到待测元件的绝对面形分布。本发明对反射率>13%的平面光学元件面形检测具有较高的检测精度。 |
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