| 专利名称 | 一种制作微透镜阵列的方法 | 申请号 | CN200810222332.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101676798 | 公开（授权）日 | 2010.03.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 董立军 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制作微透镜阵列的方法 至一种制作微透镜阵列的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法，该方法包括：在透明衬底 上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块； 熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩 膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明 衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状； 去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微 透镜的阵列结构。利用本发明，可以制作多层透镜阵列，并能够与传统的 集成电路离子注入光刻工艺相集成，适合大规模生产。 |
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