| 专利名称 | 全环光子筛及其制作方法 | 申请号 | CN200810222330.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101676750 | 公开（授权）日 | 2010.03.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 贾佳;谢长青;刘明 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I | 专利有效期 | 全环光子筛及其制作方法 至全环光子筛及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种全环光子筛，该全环光子筛包括：光子筛，该光子 筛制作在透明介质上，其衍射孔径与相应菲涅耳环带宽度相等；刻蚀圆孔， 该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处；该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律 与光子筛圆环相同，从原来的偶数环增加到奇数环，或者从原来的奇数环 增加到偶数环，在波带片的奇数环带和偶数环带都有透光部分，分别是奇 数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀位相透光孔，每个透光孔的直径和相应 的环带宽度相同，且该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成位相板。本发明同时 公开了一种制作全环光子筛的方法。利用本发明，实现了光子筛聚焦衍射 光强的提高，即实现了激光束远场衍射斑的主斑能量的提升。 |
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