| 专利名称 | 宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅 | 申请号 | CN200910054512.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101666885 | 公开（授权）日 | 2010.03.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;吕鹏;冯吉军;贾伟 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅 至宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种800纳米波段的宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅，光栅的占 空比为0.5，对于TE偏振光该光栅的周期为680～720纳米、刻蚀深度为1150～ 1250纳米；对于TM偏振光该光栅的周期为870～890纳米、刻蚀深度为 1570～1630纳米。本发明宽带高效率熔融石英透射光栅由光学全息记录技术或 电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，工艺成熟，造价小，能大 批量生产，具有重要的实用前景。 |
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