| 专利名称 | 多功能离子束溅射设备 | 申请号 | CN200910083499.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101880862A | 公开（授权）日 | 2010.11.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 龙世兵;刘明;陈宝钦;谢常青;贾锐;徐连生 | 主分类号 | C23C14/46(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/46(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 专利有效期 | 多功能离子束溅射设备 至多功能离子束溅射设备 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种多功能离子束溅射设备，包括：一真空腔室；一溅射工件台，设置于该真空腔室的顶部正中位置，其下表面与水平面平行；二溅射靶台，设置于该真空腔室的下部，左右对称于该溅射工件台的中垂线所在方向；二溅射离子源，设置于该真空腔室的中部，左右对称于该溅射工件台的中垂线所在方向，发射的离子束与溅射靶台上装载的一个靶材表面成45°角；一辅助清洗离子源，设置于该真空腔室的中部，发射的离子束与该溅射工件台下表面成30°角。该设备兼备各种功能，可用于高质量多层超薄介质和金属薄膜材料的溅射沉积、刻蚀、抛光减薄和热处理。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障