| 专利名称 | 一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板 | 申请号 | CN200910049959.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101870772A | 公开（授权）日 | 2010.10.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明（设计）人 | 李景烨;黄庆;邓波;于洋;吕敏 | 主分类号 | C08J5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | C08J5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板 至一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种周期性纳米结构高分子膜的制备方法，其包括下述步骤：(1)将高分子材料溶解在有机溶剂中，加热溶解得到铸模液；(2)将铸模液滴加到模板上，通过旋涂法在模板上制备得到湿态高分子膜；(3)将湿态高分子膜中的有机溶剂除去，至高分子膜为恒重后得到干态高分子膜；(4)在去离子水中通过超声震荡将干态高分子膜从模板上脱除，即得。本发明还提供了所述的周期性纳米结构高分子膜的制备方法中使用的模板。本发明的周期性纳米结构高分子膜的制备方法重复性好、制备速度快、简单易行且经济。 |
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