| 专利名称 | 一种用于光刻技术的无机热阻膜 | 申请号 | CN200710065293.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101286004 | 公开（授权）日 | 2008.10.15 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 刘前;曹四海;郭传飞;李晓军 | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/004(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于光刻技术的无机热阻膜 至一种用于光刻技术的无机热阻膜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于光刻技术的无机热阻膜，包括基底、在基底上依次生长的无机金属 薄膜A1和无机金属薄膜B；还包括在无机金属薄膜B的另一面上再生长一层相同的无机金 属薄膜A2；所述的无机金属薄膜A1和无机金属薄膜A2为相同的金属，并且与无机金属薄 膜B是三者能够一起生成二元合金的材料。本发明的无机热阻薄膜具有三明治夹层结构，该 无机热阻膜充分利用热传导的向上、向下同时进行的双向传导过程，可以有效增加光刻后所 得纳米构造的高度或深度。该无机热阻膜采用干法过程制备，在光刻过程中相关的干法过程 有利于整个微纳米加工过程的干法化，有利于减少加工过程中的污染，减小加工成品的缺陷 率，提高生产效率。 |
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