| 专利名称 | 高效率金属介电反射光栅的设计方法 | 申请号 | CN201110356432.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102495442A | 公开（授权）日 | 2012.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;胡安铎 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I | 专利有效期 | 高效率金属介电反射光栅的设计方法 至高效率金属介电反射光栅的设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种高效率金属介电反射光栅的设计方法，金属介电光栅的结构为熔融石英基底上依次镀上铬膜、金膜和熔融石英膜，在熔融石英膜层上刻蚀矩形槽光栅。将金属介电反射光栅分为顶部透射光栅和由连接层、金属层、基底组成的高反射率的反射镜两个部分。使用简化模式方法给出计算顶部光栅深度，计算宽带高效率所需的占空比。根据干涉原理选择连接层的厚度，以实现反射镜的最大反射率。该方法具有物理图像清晰，简单适用的优点，对于-1级高效率的金属介电反射光栅及多层介电膜反射光栅的设计均具有指导作用。 |
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