| 专利名称 | 激光调阻机自动换片机构 | 申请号 | CN200910217809.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101710510 | 公开（授权）日 | 2010.05.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 刘立峰;孙继凤;张德龙;汤建华;吴玉斌 | 主分类号 | H01C17/242(2006.01)I | IPC主分类号 | H01C17/242(2006.01)I | 专利有效期 | 激光调阻机自动换片机构 至激光调阻机自动换片机构 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明涉及用于加工电阻基板的激光调阻机，特别涉及一种激光调阻机自动换片机构，包括通过两个升降气缸分别设置在沿机架上部水平导轨滑动的滑块上的两个机械手和设置在机台上的光刻平台，所述的两个机械手通过两个运动方向垂直于所述滑块运动方向的平推气缸分别连接在所述的两个升降气缸的活塞下端上；所述的光刻平台通过一运动方向与所述滑块运动方向相平行的平移滑台设置在机台上，光刻平台上沿其运动方向设有两个电阻基片放置位。只用一个光刻平台和一套纵向平移滑台，取代了目前的四套平移滑台机构和两个光刻平台，降低了成本，减小了设备体积，更便于设备维护、提高了光刻质量。 |
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