| 专利名称 | 一种用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置 | 申请号 | CN200920288332.9 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201575971U | 公开（授权）日 | 2010.09.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 发明（设计）人 | 辛勇;于海斌;杨志家;孙兰香;丛智博;孔海洋 | 主分类号 | G01N21/63(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/63(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置 至一种用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种用于熔融金属的激光诱导击穿光谱装置，属于激光诊断和测量技术领域。包括光源系统、光路系统及信号采集分析系统，光源发出的激光与光路系统的二向色镜形成45°入射角，光路系统将收集到的光信号通过光纤传入信号采集分析系统中进行分析。本实用新型利用激光直接照射熔融金属产生等离子体，然后把等离子体所辐射的光进行采集分析，实时的监测熔融金属的组分含量，可以根据所得到的分析结果实时指导冶炼生产过程。利用本实用新型可以提高产品质量，减少缺陷；降低能源消耗；增加熔炼周转次数，提高产能；延长炉体寿命。 |
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