| 专利名称 | 基于SU-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法 | 申请号 | CN201010275953.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101950126A | 公开（授权）日 | 2011.01.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 李刚;陈强;沈念;赵建龙 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于SU-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法 至基于SU-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于SU-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法，其特征在于所述的方法以聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane，PDMS)压模技术结合未交联SU-8光刻胶的回流特性制作具有圆滑曲面特征的微结构。首先通过光刻工艺制作SU-8原模，并以此原模浇注PDMS形成母模，然后利用压模技术将此PDMS母模转制成SU-8阳模，剥离PDMS模具后，将此未经曝光交联反应的SU-8阳模置于高温(55℃～120℃)环境下回流，形成具有圆滑曲面特征的三维微结构。本发明提出的圆滑曲面微结构的制作方法相对于传统的灰阶掩膜技术、发散光曝光技术和正性光刻胶回流方法，具有加工简便、成本低廉、结构稳固、结构曲率范围更大等特点。 |
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