| 专利名称 | 一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 | 申请号 | CN200910254668.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101950082A | 公开（授权）日 | 2011.01.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 屈恩世;曹剑中;范哲源;周祚峰 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 至一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明突破传统固有思维，提出了一种全新的补偿像面照度的理论和方法，不影响成像系统的透过率，经理论计算验证和实验，采用适当的畸变，可以在较大的视场范围内增加像面的边缘照度，切实提高了提高像面照度的均匀性，尤其适合低照度大视场成像系统的光学系统工程设计。 |
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