| 专利名称 | 一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法 | 申请号 | CN200610161333.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN1996055 | 公开（授权）日 | 2007.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 黄烽;王海千;李明;谢斌;侯建国;宋亦周;姜友松 | 主分类号 | G02B1/00(2006.01) | IPC主分类号 | G02B1/00(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/14(2006.01) | 专利有效期 | 一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法 至一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO2低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为5－25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7－4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500－1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。 |
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