| 专利名称 | 磁控溅射装置组合单元 | 申请号 | CN201020056712.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201704400U | 公开（授权）日 | 2011.01.12 | 申请（专利权）人 | 广东中航特种玻璃技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 王金林;陆卫;季亚林;徐军 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 专利有效期 | 磁控溅射装置组合单元 至磁控溅射装置组合单元 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种磁控溅射装置组合单元，包括阴极，分子泵以及导流罩，所述的分子泵设置在导流罩内，所述的分子泵与阴极并列设置。本实用新型的磁控溅射装置组合单元通过将阴极和分子泵设置在一个单元里，节约了镀膜设备中的单元数量，而又达到了同样的工艺效果，这样对所有因设备单元数量有限而使多层镀膜受限制提供了一个很好的解决方案，在不增加设备购买以及满足产品性能要求的情况下，可以继续放置更多的阴极进行多层镀膜，从而大大的节约了生产成本，提高了生产效率。 |
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