| 专利名称 | 用于均匀出气的气体分配器 | 申请号 | CN201010296275.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101949007A | 公开（授权）日 | 2011.01.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 王国斌;邱凯;朱建军;张永红 | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 专利有效期 | 用于均匀出气的气体分配器 至用于均匀出气的气体分配器 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于均匀出气的气体分配器，其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段，用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔，所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依次固定连接，相邻两个气体分配腔之间藉一连接壁相互间隔，且所述连接壁面上分布一个以上配气孔。通过调整各体分配腔的高度或长度、各连接壁面上配气孔的排布位置和孔径大小，可使最终的出气流速相等。本发明结构简单，易于加工，便于组装维护，成本低廉，可为反应室提供均匀一致的进气，保证化学气相淀积设备进气的均匀性和一致性，利于薄膜的均匀生长。 |
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