| 专利名称 | 高速多光束并行激光直写装置 | 申请号 | CN200920067227.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201345033 | 公开（授权）日 | 2009.11.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 徐文东;范永涛 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I | 专利有效期 | 高速多光束并行激光直写装置 至高速多光束并行激光直写装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源 调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和 主控模块组成，本实用新型提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了 刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束的刻写子系统与不同运动方 式的样品台组合成具有不同功能的刻写装置。 |
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