用于溅射磁性材料的磁控靶

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专利名称 用于溅射磁性材料的磁控靶 申请号 CN200820219582.2 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN201296778 公开(授权)日 2009.08.26 申请(专利权)人 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 发明(设计)人 冯彬;鲁向群;佟辉;刘大为;周颖;刘丽华 主分类号 C23C14/35(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/35(2006.01)I 专利有效期 用于溅射磁性材料的磁控靶 至用于溅射磁性材料的磁控靶 法律状态 授权 说明书摘要 本实用新型公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶,由外屏蔽罩、磁钢座、 极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡 胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料 为无氧铜,中心放内磁钢,周边钻若干小孔放外磁钢,靶材直接放在磁钢座上, 通过靶材压盖固定。极靴材料为导磁材料,磁控靶工作时直流或者射频电源加 在极靴上。极靴下面氩弧焊焊接进出水嘴,冷却水低进高出,靠密封橡胶圈实 现密封。绝缘座材料为可以在真空下使用的耐热绝缘材料,安装在固定座(阳 极)和极靴(阴极)之间。绝缘帽起到带电螺钉(阴极)和固定座(阳极)之 间的绝缘作用。本实用新型结构简单,成本低,磁控靶寿命长。

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