| 专利名称 | 一种超高真空表面分析系统中的电子束加热器 | 申请号 | CN200820218629.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201269842 | 公开（授权）日 | 2009.07.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 马腾;谭大力;傅强;王珍;包信和 | 主分类号 | G01N1/44(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N1/44(2006.01)I | 专利有效期 | 一种超高真空表面分析系统中的电子束加热器 至一种超高真空表面分析系统中的电子束加热器 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种超高真空表面分析系统中的电子束加热器，在 样品台下方设置有上端开口的环形的金属电子屏蔽罩，电子屏蔽罩的下方 设置有样品台支撑杆，样品台支撑杆的下方设置有真空法兰；于所述环形 的电子屏蔽罩内设置有电子枪灯丝，电子枪灯丝的四周设置有金属电子枪 灯丝罩，电子枪灯丝通过导线与控制电源相连；在电子枪灯丝上方的电子 枪灯丝罩和样品台上分别开设有孔，电子枪灯丝罩上的开孔与样品台上的 开孔相对应。本实用新型利用热发射的电子束轰击样品背面实现能量的传 递来加热样品，能够显著提高超高真空表面分析系统处理多种样品的能力， 特别适用于高熔点金属样品，也可以处理SiC等半导体薄片。 |
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