| 专利名称 | 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统 | 申请号 | CN200820055177.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201166781 | 公开（授权）日 | 2008.12.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 袁琼雁;王向朝;邱自成 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机投影物镜偶像差原位检测系统 至光刻机投影物镜偶像差原位检测系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种光刻机投影物镜偶像差原位检测系统，所述系统包括光源、照明系统、测 试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置、数据采 集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。所述测 试掩模包含一种用于偶像差原位检测的测试标记，由0°、45°、90°、135°四个方向 的移相光栅标记组成，光栅的线空比经过优化，达到最大的像差灵敏度。本实用新 型的优点是提高了偶像差的检测精度。 |
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