| 专利名称 | 模块化的激光直刻装置 | 申请号 | CN200720072320.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201063094 | 公开（授权）日 | 2008.05.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 范永涛;徐文东 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;B23K26/08(2006.01)I | 专利有效期 | 模块化的激光直刻装置 至模块化的激光直刻装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种模块化的激光直刻装置，整套装置采用模块化设计，由激光调 制模块、光点扫描模块、激光功率检测模块、自动聚焦模块、控制和检 测模块构成。系统将激光器发出的平行激光会聚成光点聚焦在待刻写的 样品表面，利用计算机控制射向样品表面的激光强度的同时控制样品移 动，即可在样品表面形成具有灰度分布的二维图形。本实用新型可以在 不需掩模的情况下直接在光或热阻薄膜材料表面形成纳米构造，具有加 工周期短、灵活性高、适用范围广、模块化程度高、加工精度高、可扩 展性强等特点。 |
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