| 专利名称 | 一种光电成像系统性能评估实验分析方法 | 申请号 | CN201010610980.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102567608A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 发明（设计）人 | 赵怀慈;刘海峥;郝明国;花海洋;王立勇 | 主分类号 | G06F19/00(2011.01)I | IPC主分类号 | G06F19/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种光电成像系统性能评估实验分析方法 至一种光电成像系统性能评估实验分析方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种光电成像系统性能评估实验分析方法，包括以下步骤：建立光电成像系统性能预测模型；在性能预测模型中划分输入因素集和输出指标集；对输入因素集进行筛选实验；根据筛选实验结果划分模型输入因素水平，建立模型输入因素水平表；根据模型输入因素水平表，选取正交表，形成实验方案；调用性能预测模型计算各实验方案对应的输出指标集；利用输出指标集进行极差分析和灵敏度分析，结束本次实验分析过程。本发明方法可以以最少的实验次数全面、典型、均衡可比的反映实验输入各因素对实验指标的影响，通过极差法分析确定各输入因素的最优水平和对输出指标的影响的主次关系，同时采用灵敏度分析法分析输入因素对输出指标的敏感程度。 |
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