一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法

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专利名称 一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法 申请号 CN201210026465.5 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102564575A 公开(授权)日 2012.07.11 申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 贺元兴;李新阳 主分类号 G01J1/00(2006.01)I IPC主分类号 G01J1/00(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I 专利有效期 一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法 至一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法,该方法的测量装置包括一对正交光楔、聚焦透镜、CCD成像器件和计算机系统,入射激光束经两块楔角朝向彼此正交的光楔器件的分束及聚焦透镜的会聚后,在位于透镜焦平面内的CCD光敏面上形成峰值强度依次衰减的子光斑阵列,采取有效的方法将所测得的各子光斑进行拼接融合,最终重构得到完整的激光远场焦斑强度分布。本发明可以大幅度拓展CCD的测量动态范围,将实际焦斑的大量高频旁瓣信息从CCD背景噪声中提取出来,使准确测量和评估光束质量成为可能。

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