| 专利名称 | 全光纤斐索干涉共焦测量装置 | 申请号 | CN200720067317.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201043884 | 公开（授权）日 | 2008.04.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 蔡海文;陈高庭;方祖捷 | 主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I;G01B9/023(2006.01)I;G02B6/34(2006.01)I | 专利有效期 | 全光纤斐索干涉共焦测量装置 至全光纤斐索干涉共焦测量装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种用于微纳器件的表面形貌和层面厚度进行高精度测量的全光纤斐索干涉共 焦测量装置，构成为：第一半导体激光器和第二半导体激光器的输出端分别和光纤 合波器的第一端口、第二端口相连，该光纤合波器的第三端口和光纤导光元件的第 一端口相连，该光纤导光元件的第三端口和探头光纤相连，该探头光纤上靠近输出 端面写有第一光纤光栅，所述的第一光纤光栅的衍射光经自聚焦透镜照射在处于三 维扫描平台上的待测样品上，所述的光纤导光元件的第二端口和光纤分束器的第一 端口相连，该光纤分束器的第三端口和第四端口分别和第三光纤光栅及第二光纤光 栅相连，第二光纤光栅的输出端和第一光电探测器相连，第三光纤光栅的输出端和 第二光电探测器相连。 |
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