| 专利名称 | 用于环行抛光机的校正板 | 申请号 | CN200620048585.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN200991846 | 公开（授权）日 | 2007.12.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 樊全堂;朱健强 | 主分类号 | B24B29/02(2006.01) | IPC主分类号 | B24B29/02(2006.01) | 专利有效期 | 用于环行抛光机的校正板 至用于环行抛光机的校正板 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本实用新型校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。 |
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