| 专利名称 | 光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法 | 申请号 | CN201110148554.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102200697A | 公开（授权）日 | 2011.09.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 闫观勇;王向朝;彭勃;徐东波;段立峰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法 至光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于光刻机的基于空间像主成分拟合定心的光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法，本发明通过主成分拟合找到空间像实测位置与名义位置的偏移量，从而得到空间像的主成分系数和波像差。所述方法首先是仿真一组空间像，对空间像进行主成分分析和线性回归得到主成分和回归矩阵，并得到主成分与仿真空间像坐标的样条插值函数。对X-Z面用像传感器扫描获得光刻机硅片面的空间像分布，首先通过定心流程得到该空间像实测位置与名义位置的偏移量，然后计算其对应的主成分系数。根据回归矩阵和主成分系数，采用最小二乘法拟合求解波像差。本发明补偿了空间像的定心误差，提高了求解的重复精度。 |
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