| 专利名称 | 一种金属光学灰度掩模及其制作方法 | 申请号 | CN200980111157.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101981500A | 公开（授权）日 | 2011.02.23 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 郭传飞;刘前;曹四海;王永胜 | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种金属光学灰度掩模及其制作方法 至一种金属光学灰度掩模及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种金属光学灰度掩模包括在透明衬底上沉积一层金属薄膜，在金属薄膜表面进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形，其灰度值范围为3.0-0.05D，金属薄膜的厚度为5-100纳米。光学灰度掩模的制作方法包括采用常规半导体清洗工艺将所选择的透明衬底清洗干净，再在透明衬底上沉积金属薄膜，在金属薄膜上再进行激光直写，形成连续的、列阵式或任意图形的不同透明度的图形。这种灰度掩模价格低廉，防静电性能良好，分辨率能超过光学衍射极限。这种制备方法简单，有较宽的适用波段，用于微光学元件和微机电系统的大规模制作。 |
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