| 专利名称 | 一种激发荧光强度均匀校正方法 | 申请号 | CN201110064845.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102172324A | 公开（授权）日 | 2011.09.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院自动化研究所 | 发明（设计）人 | 田捷;薛贞文;杨鑫;秦承虎 | 主分类号 | A61B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | A61B5/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种激发荧光强度均匀校正方法 至一种激发荧光强度均匀校正方法 | 法律状态 | 专利实施许可合同备案的生效、变更及注销 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种激发荧光强度均匀校正方法，所述方法的技术方案如下：利用光谱曲线相同的两片激发滤光片，一片放在激发光源出口，另一片放在CCD探测器前，经激发光照射物体时探测器获得第一图像；将放在CCD探测器前的滤光片换成发射滤光片，经激发光照射物体时探测器获得第二图像。接下来将第二图像中像素值除以第一图像中相应像素值获得中间校正图像。对中间校正图像进行归一化和取整处理得到最终校正图像。经过激发荧光强度均匀校正后的图像修正了受激发的物体表面接收激发光强度不均匀所带来的误差，因此能更真实地反映受激发的荧光图像。 |
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