| 专利名称 | 基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源 | 申请号 | CN201110129449.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102325421A | 公开（授权）日 | 2012.01.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 喻虹;韩申生;沈夏 | 主分类号 | H05G2/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H05G2/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源 至基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源，包括置于防辐射外壳中的单色X射线产生系统和赝热X射线调控腔，所述的单色X射线产生系统由振荡器、白光狭缝、双晶单色器同轴构成，所述的赝热X射线调控腔由可调狭缝组、微孔薄膜及其运动控制器、X射线出射窗同轴构成。由振荡器产生的热X射线经传播首先到达白光狭缝，限束后进入双晶单色器，经双晶单色器单色化后成为单色X射线，辐照到赝热X射线调控腔，在腔内依次经过固定于底盘上的可调狭缝组和微孔薄膜，在微孔薄膜运动控制器控制下，在微孔薄膜后方形成动态X射线散斑，由X射线出射窗出射，即为X射线赝热光场。本发明具有X光波段适用、高分辨率、高亮度、可调控和稳定性好的特点。 |
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