| 专利名称 | 一种高硬度微米研磨液及其配制方法 | 申请号 | CN201010222586.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102311717A | 公开（授权）日 | 2012.01.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 汪宁;陈晓娟;罗卫军;庞磊;刘新宇 | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I | IPC主分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高硬度微米研磨液及其配制方法 至一种高硬度微米研磨液及其配制方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种高硬度微米研磨液及其配制方法，该研磨液由单晶人造金刚石微粉、氧化铝微粉、无机盐混合物、有机物PEG200、氨水、丙酸和去离子水配置而成，具体质量百分比为：金刚石微粉0.1～2.0％，氧化铝微粉0.2～5.0％，无机盐混合物0.2～5.0％，PEG2000.5％～10％，氨水0.01～1％，丙酸0.01～1％，去离子水78～98.5％。本发明同时公开了一种配制上述研磨液的方法。利用本发明提供的这种一种高硬度微米研磨液及其配制方法，调配出的研磨液采用高硬度微米级磨料，使用效果理想，各项机械性能指标均衡，满足了GaN外延用衬底(碳化硅，蓝宝石)进行减薄研磨工艺的要求。 |
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