| 专利名称 | 热蒸发镀膜设备的热蒸发源 | 申请号 | CN201210544335.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102994958A | 公开（授权）日 | 2013.03.27 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院;香港中文大学 | 发明（设计）人 | 张撷秋;肖旭东;陈旺寿;宋建军;刘壮;顾光一;杨春雷 | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 专利有效期 | 热蒸发镀膜设备的热蒸发源 至热蒸发镀膜设备的热蒸发源 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种热蒸发镀膜设备的热蒸发源，包括用于沉积薄膜的衬底、用于装载蒸发材料的坩埚，及用于加热所述坩埚的加热组件；所述坩埚上设有多个与所述衬底相对的喷嘴，所述多个喷嘴中的每两个相邻喷嘴之间的距离不全相等。采用非均匀分布的喷嘴排列方式，改变了每个喷嘴喷射到衬底平面上的位置，而衬底上的总的喷射材料是各个喷嘴喷射材料的叠加，从而改善蒸发镀膜的均匀性。 |
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