| 专利名称 | 用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置 | 申请号 | CN201010244664.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102345097A | 公开（授权）日 | 2012.02.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 赵彦辉;肖金泉;杜昊;华伟刚;于宝海;宫骏;孙超 | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 专利有效期 | 用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置 至用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于材料表面改性领域，涉及一种用于长管内壁镀膜的磁场和电场增强的电弧离子镀膜装置。通过在电弧离子镀过程中采用磁场约束和控制等离子体束流运动轨迹，在电弧离子镀沉积装置中设置两套磁场发生装置，一套放在真空室外的等离子体传输通道上，即用磁场对等离子体束流进行聚焦，约束等离子体束流传输时的横截面直径和传输效率，另一套放置于真空室内的管状工件外侧，引导等离子体束流沿着管状工件中心轴向方向扩散；在电弧离子镀中利用电场增强是用电场对等离子体实现加速定向流动，在工件内部设置脉冲电场；利用磁场和电场对等离子体束流的约束和控制，实现等离子体在管内壁沉积薄膜，适用于作为服役表面的管状工件的内壁表面镀膜。 |
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