| 专利名称 | 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统 | 申请号 | CN201210264944.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102955371A | 公开（授权）日 | 2013.03.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 卢亮;张海波;廖志杰;林妩媚;邢廷文;甘大春;何毅 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统 至一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，包括：聚光镜组，位于照明系统的照明光路上，负责将光会聚到指定位置；匀光棒，位于系统所述聚光镜组的光路上，聚光镜组会聚的光经由匀光棒的入射端入射并经由出射端出射；控制装置，用来固定多根不同口径比的匀光棒，装置有平行于照明系统光轴的旋转轴，装置绕此轴旋转调整匀光棒的位置，使指定的匀光棒置于照明系统光路中参与调节照明系统的相干因子；所述控制装置由高精度旋转台驱动；中继透镜位于所述匀光棒的出射光路上；照明场，位于所述中继透镜的出光光路上。本发明能用简单的方法调节系统的相干因子，或者简化变焦透镜的设计复杂度，达到简化结构降低成本的目的。 |
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