| 专利名称 | 光学波片厚度的测量仪 | 申请号 | CN01274450.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN2515652 | 公开（授权）日 | 2002.10.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 欧阳斌;林礼煌;徐至展;张秉钧;莽燕萍 | 主分类号 | G01B11/06 | IPC主分类号 | G01B11/06;G02B27/28 | 专利有效期 | 光学波片厚度的测量仪 至光学波片厚度的测量仪 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种光学波片厚度的测量仪,主要适用于测量光 学晶体波片的厚度。包括含有支柱顶端的台顶,中间有支撑台, 低端有台座的检测台。台顶的通光孔中心与支撑台通光孔中心 与台座的通光孔中心是一条垂直线,与置于台顶单色光源发射 的光束经过起偏器、全反射镜,穿过待测波片、再经过检偏器至 探测器的光路的光轴重合。计算机控制两个分别与置放待测波 片的上转盘和置放检偏器的下转盘连接的步进电机。依据待测 波片具有晶体双折射的特性,测得滞后角,获得待测波片的厚 度。与在先技术相比,本实用新型的测量仪具有测量精度高,测 量误差达到小于1微米。使用方便,操作简单可靠。 |
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