| 专利名称 | 一种基于金属局域化效应的光刻方法 | 申请号 | CN200710121245.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101126900 | 公开（授权）日 | 2008.02.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;董小春;杜春雷;魏兴战;邓启凌 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于金属局域化效应的光刻方法 至一种基于金属局域化效应的光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于金属局域化效应的光刻方法：(1)首先在玻璃表面制作金属结构；(2)将PDMS 预聚物倾倒于金属结构表面，并在30℃-90℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固 化的PDMS膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于PDMS材料之中形成局域化 光刻掩膜；(3)选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；(4)将PDMS局域化光刻掩模 与基底表面的光刻胶紧密贴合；(5)采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉PDMS 模板；(6)对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。本发明可以制备出特征尺寸小 于50nm的结构，且制作工艺简单，不需要采用复杂的设备，制作效率高。 |
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