| 专利名称 | 一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法 | 申请号 | CN201110031653.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102620664A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 袁宏韬;袁磊;彭钦军;崔大复;许祖彦 | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法 至一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种检测光学镀膜机镀膜膜厚均匀性的方法，包括下列步骤：第一步：设计本发明双腔滤光片膜系；第二步：模拟计算膜层厚度变化对所诉双腔滤光片峰值透过率及中心波长的影响；第三步：计算尖峰极值点透过率比值与膜层光学厚度比值，中心波长与总光学厚度，两组数学关系。第四步：根据第三步的数学关系，求解计算膜厚的公式；第五步：从工件盘中心到边缘摆放数量大于2的基片，沉积本发明所述双腔滤光片，测量出每一片的中心波长和尖峰极值透过率，用第四步的公式计算出每一片两种膜层厚度，得到镀膜机镀膜膜厚度分布即膜厚均匀性。实验表明：本发明可以快速准确获得光学镀膜机镀膜膜厚均匀性数据，为镀膜机镀膜膜厚均匀性修正提供依据。 |
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