| 专利名称 | 光刻机投影物镜大像差检测方法 | 申请号 | CN201210105912.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102621819A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 段立峰;王向朝;徐东波 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机投影物镜大像差检测方法 至光刻机投影物镜大像差检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机投影物镜大像差检测方法。该方法采用多级Box-Behnken?Design抽样方法，并通过空间像主成分分析实现对光刻投影物镜大波像差的检测。本发明方法在像差幅值大于0.1λ时，能够使像差的检测精度提高30％以上。 |
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