| 专利名称 | 一种悬架结构光刻胶的涂胶方法 | 申请号 | CN201010144358.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102213919A | 公开（授权）日 | 2011.10.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 吴紫阳;杨恒;李昕欣;王跃林 | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 专利有效期 | 一种悬架结构光刻胶的涂胶方法 至一种悬架结构光刻胶的涂胶方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，具有能够在沟槽、孔洞、微柱等结构上形成悬架结构，并用于光刻掩膜的特性。其具体步骤为：首先将少量一定浓度的光刻胶滴于极性溶液表面，使之在气-液界面自组装形成一定厚度的光刻胶膜，再将该光刻胶膜转移至已刻蚀出图形的半导体材料上，使之跨过沟槽和孔洞等形成悬架的光刻胶结构，之后对该光刻胶膜进行前烘、曝光、显影及后烘等步骤形成光刻图形。该光刻胶膜可实现刻蚀掩膜、牺牲层材料、胶保护等功能，其工艺过程简单、用料节省、成本低廉。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障