一种结合压印技术制备各向异性有机场效应管的方法

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专利名称 一种结合压印技术制备各向异性有机场效应管的方法 申请号 CN200610012052.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101083302 公开(授权)日 2007.12.05 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 商立伟;涂德钰;王丛舜;刘明 主分类号 H01L51/40(2006.01) IPC主分类号 H01L51/40(2006.01) 专利有效期 一种结合压印技术制备各向异性有机场效应管的方法 至一种结合压印技术制备各向异性有机场效应管的方法 法律状态 授权 说明书摘要 本发明属于有机半导体学中的微细加工领域,特别涉及一种结合压印技术制备各向异性有机场效应管的方法。其步骤如下:1.在导电基底上制备绝缘介质层;2.在绝缘介质层薄膜表面上沉积生长第一层有机半导体薄膜;3.利用模板压印有机薄膜,把设计的模板图形转移到第一层有机薄膜上;4.沉积生长第二层同质有机物薄膜;5.通过镂空的掩模版沉积源漏金属电极,完成各向异性有机场效应管的制备。

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