| 专利名称 | 一种测量光学薄膜吸收损耗的方法 | 申请号 | CN200710118694.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101082537 | 公开（授权）日 | 2007.12.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 李斌成;郝宏刚 | 主分类号 | G01M11/00(2006.01) | IPC主分类号 | G01M11/00(2006.01);G01M11/02(2006.01) | 专利有效期 | 一种测量光学薄膜吸收损耗的方法 至一种测量光学薄膜吸收损耗的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种测量光学薄膜吸收损耗的方法，其特征在于：利用光学薄膜元件反射或透射光谱随温度变化而发生漂移的现象，选择合适的探测光波长，调整探测激光束(低功率)相对于样品表面的入射角度，使探测光波长处于反射或透射光谱带边缘斜率最大的位置。使用强度周期性调制的(高功率)连续或脉冲激光束作为加热光照射薄膜元件薄膜层和探测光束相同或相邻的位置，使探测光束从样品表面反射或透射光强度受到调制或发生瞬时变化。用光电探测器监测加热激光束照射过程中薄膜元件反射或透射的探测光强度的实时变化监视薄膜元件吸收损耗和光学性能的实时变化，并通过对信号振幅定标实现吸收损耗的绝对测量。另外，通过扫描薄膜元件的横向位置可实现吸收损耗的二维高分辨成像。本方法在一定条件下可以提高吸收损耗测量的灵敏度。 |
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