一种悬臂梁结构、制作方法及应用

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专利名称 一种悬臂梁结构、制作方法及应用 申请号 CN200710041875.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101066749 公开(授权)日 2007.11.07 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 王跃林;车录锋;熊斌;范克彬 主分类号 B81B3/00(2006.01) IPC主分类号 B81B3/00(2006.01);B81C1/00(2006.01) 专利有效期 一种悬臂梁结构、制作方法及应用 至一种悬臂梁结构、制作方法及应用 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种以硅各向异性腐蚀为关键技术制造的悬臂梁结构和制作方法,属于微电子机械系统领域。其特征在于,悬臂梁的断面为五边形,悬臂梁上表面为单晶硅(100)晶面,悬臂梁下表面由两个(111)晶面组成。悬臂梁结构是由各向异性腐蚀出来的,由(111)面作为腐蚀终止面,自动终止硅悬臂梁的腐蚀,悬臂梁结构可精确控制,使得悬臂梁的制造成品率大大提高。本发明可应用于多种MEMS器件的结构中,如电容式加速度传感器、电阻式加速度传感器、微机械陀螺、谐振器等,可以大大提高器件制作工艺的控制水平,提高器件制作的成品率。

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