| 专利名称 | 紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置 | 申请号 | CN200710099701.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101063810 | 公开（授权）日 | 2007.10.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 陈旭南;罗先刚;胡承刚 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 专利有效期 | 紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置 至紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置，包括主机大基板、压模移动台系统、均匀照明系统、压模架、压模、基片、对准系统、基片升降系统、承片调平台系统、花样镜、压镜和控制系统，在主机大基板上固定有压模移动台系统和在其内部的承片调平台系统，XY压模移动台上支撑有压模架和花样镜或压镜，吸附着压模或掩模，基片或硅片被吸附于承片调平台系统上，均匀照明系统位于压模的上方，对准系统连接在均匀照明系统的一侧，工作台系统和均匀照明系统的探测输出信号送至控制系统进行处理，用于控制。本发明具有微纳图形气压压印和光刻两方面的功能，且操作使用方便。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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