| 专利名称 | 一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法 | 申请号 | CN200910243540.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101794070A | 公开（授权）日 | 2010.08.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;冯沁;刘凯鹏;潘丽;邢卉;刘尧;刘玲 | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F1/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法 至一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于缩小投影超分辨成像的器件和光刻方法。器件主要结构特征为多层交替叠加的金属和介质薄膜，薄膜界面为特殊设计的曲面。在薄膜结构最外层掩模物信息以一定缩小倍率成像传递到另外一侧最外层表面，该表面外为光刻胶，实现缩小投影超分辨成像光刻。或者通过投影光学系统将掩模图形投影成像到超分辨成像器件的物平面上，再以一定缩小倍率成像传递到器件另外一侧最外层表面，该表面外为光刻胶，实现缩小投影超分辨成像光刻。 |
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