| 专利名称 | 一种粉末镀膜设备 | 申请号 | CN201020645156.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN201883142U | 公开（授权）日 | 2011.06.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明（设计）人 | 冯彬;张宁;刘大为;王维;李伟;孟凡利 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;B22F1/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种粉末镀膜设备 至一种粉末镀膜设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 一种粉末镀膜设备，属于镀膜设备技术领域。包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置，所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪，离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射至样品盘，磁控靶的中心线交于样品盘。本实用新型拉开粉末相邻颗粒间距离，使之减少颗粒之间的摩擦，避免被镀层被磨掉，使得每个粉末颗粒每个面都能产生朝向靶面或热丝电极的机会，从而实现在粉末颗粒上各个面上镀膜。 |
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