| 专利名称 | 一种自适应高阶横模激光相干合成装置 | 申请号 | CN201010121534.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101794962A | 公开（授权）日 | 2010.08.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 杨平;许冰;董理治;雷翔 | 主分类号 | H01S3/16(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S3/16(2006.01)I;H01S3/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种自适应高阶横模激光相干合成装置 至一种自适应高阶横模激光相干合成装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 自适应高阶横模激光相干合成装置，由固体激光器、变形镜、光束匹配系统、CCD相机、分光反射镜、高压放大器、聚焦透镜、衰减系统、计算机组成。固体激光器输出的高阶横模激光经光束匹配系统扩束后入射到变形镜上，经变形镜反射的光束再依次经过分光反射镜、衰减系统、聚焦透镜，汇聚在焦点位置的CCD相机，内置于计算机的优化算法沿着让CCD相机上焦斑峰值强度增大的方向迭代计算出电压信号，该电压信号经高压放大器放大后加载到变形镜的各个驱动器上，驱动变形镜产生相应的形变，补偿高阶横模激光整体波前相位中的畸变、补偿高阶横模激光各节线两侧旁瓣π相位跃变、提升高阶横模激光的相干特性和可聚焦能力。本发明可以提升高阶横模光束间的相干性能和可聚焦能力。 |
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